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机译:用于45nm节点的水浸光学光刻
Bruce W. Smith; Hoyoung Kang; Anatoly Bourov; Frank Cropanese; Yongfa Fan;
机译:添加盐对高折射率浸没光刻胶水的光学性能的影响
机译:193 nm的水浸式光刻
机译:45nm节点的水浸光学光刻
机译:用于浸没式光刻的水性和有机液体的折射率和吸收率。
机译:冰水浸入和冷水浸入在运动诱发的体温过高的跑步者中提供相似的降温速率
机译:偏振照明对45nm节点ArF浸没光刻法中高NA成像的影响
机译:使用干式或浸没式光刻技术和取消Poizoningu光刻胶,使用45nm huichiyasaizu破坏光致抗蚀剂材料
机译:浸入式光刻设备和方法(浸入式光刻设备具有均匀的压力,至少在投影光学组件和晶圆上具有均匀的压力)
机译:在浸没式光刻机中进行基板更换期间,将浸没流体与光学组件,设备和经过调理的零光学元件邻接
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